社名
社名非公開
職種
製品開発エンジニア
業務内容
フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価をご担当頂きます。※業務詳細に関しましては、初回カジュアル面談にて口頭でのご説明となります
求められる経験
■いづれか以下の知識やご経験を有する方
・フォトレジストの研究開発の経験(3年以上)があり、先端半導体リソグラフィに精通していること
・フォトレジストの研究開発(ArF, EUV向け)
・フォトレジストの処方(フォーミレーション)、物性評価(特にプロセス適性)、ポリマー/感光剤(PAG)等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーション
...
・フォトレジスト周辺素材;BARC(反射防止膜、アンダーレイヤー)、SOH(スピンオンハードマスク)等の処方/物性評価
・研究開発のリーダーまたは管理職の経験
・特許または論文の筆頭著者
・対外協力(大学、公的研究機関、企業)の経験、海外機関が対象であればより望ましい
保険
健康保険 厚生年金保険 雇用保険
待遇・福利厚生
休憩室,食堂
休日休暇
土曜日 日曜日 祝日
給与
年収1,400 ~ 2,000万円
賞与
-
雇用期間
期間の定めなし
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社名
社名非公開
職種
製品開発エンジニア
業務内容
フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価をご担当頂きます。※業務詳細に関しましては、初回カジュアル面談にて口頭でのご説明となります
求められる経験
■いづれか以下の知識やご経験を有する方
・フォトレジストの研究開発の経験(3年以上)があり、先端半導体リソグラフィに精通していること
・フォトレジストの研究開発(ArF, EUV向け)
・フォトレジストの処方(フォーミレーション)、物性評価(特にプロセス適性)、ポリマー/感光剤(PAG)等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーション
・フォトレジスト周辺素材;BARC(反射防止膜、アンダーレイヤー)、SOH(スピンオンハードマスク)等の処方/物性評価
・研究開発のリーダーまたは管理職の経験
・特許または論文の筆頭著者
・対外協力(大学、公的研究機関、企業)の経験、海外機関が対象であればより望ましい
保険
健康保険 厚生年金保険 雇用保険
待遇・福利厚生
休憩室,食堂
休日休暇
土曜日 日曜日 祝日
給与
年収1,400 ~ 2,000万円
賞与
-
雇用期間
期間の定めなし